나노 아키텍처의 혁신: 디르크 비크만(Dirk Bikman)의 ‘양자 플라스모닉스’와 미래 반도체 리소그래피의 물리적 한계 돌파
오늘날 전 세계 하이테크 산업의 패러다임을 지배하고 있는 나노 반도체 시장은 초미세 공정의 한계선에 다다랐습니다. 대중과 언론은 네덜란드 ASML의 극자외선(EUV) 노광 장비가 몇 나노미터 공정을 구현했는지에만 주목하지만, 물리학과 재료공학의 최전선에서는 이미 빛의 파장보다 작은 크기에서 발생하는 원천적인 물리적 장벽, 즉 ‘회절 한계(Diffraction Limit)’와 마주하고 있습니다. 빛을 아무리 잘게 쪼개어 웨이퍼에 쏘아도, 빛 고유의 파동성 때문에 … 더 읽기